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科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積
- 分類：公司新聞
- 發布時間：2019-01-10
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【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果。科民電子利用PE-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積
【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果。科民電子利用PE-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
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科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積
金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果。科民電子利用PE-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備
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